삼성전자, 세계 첫 3나노 공정기술 개발

삼성전자가 세계 첫 3나노 공정기술 개발에 성공했다. 사진은 지난 2일 서울 중구 대한상공회의소에서 열린 신년합동인사회에 참석한 이재용 부회장 모습.
삼성전자가 3나노 공정기술 개발에 성공했다. 이재용 삼성전자 부회장은 “역사는 기다리는 것이 아니라 만들어가는 것”이라고 자부심을 드러냈다.

이 부회장은 지난 2일 경기 화성사업장 내 반도체 연구소를 찾아 3나노미터(㎚·10억분의 1m) 공정 기술 관련 보고를 받고 이 같이 말했다.

삼성전자에 따르면 GAA(Gate-All-Around)'를 적용한 3나노 반도체는 5나노 제품에 비해 칩 면적을 약 35% 이상 줄일 수 있는 차세대 기술이다. 소비전력을 50% 감소시키면서 처리속도는 약 30% 향상시킬 수 있다.

3나노 반도체가 완성되면 글로벌 스마트폰·반도체 회사들의 신제품 물량을 수주할 가능성이 높아지는 만큼 신성장 동력의 강화도 기대할 수 있다.

이를 보고받은 이 부회장은 삼성에 새로운 미래를 당부했다. 그는 “과거의 실적이 미래의 성공을 보장해주지 않는다”며 “잘못된 관행·사고는 과감히 폐기하고 새로운 미래를 개척해 나가자”고 주문했다.

주현웅 기자



주현웅 기자 chesco12@hankooki.com