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삼성전자 “기다려라 TSMC”

평택에 파운드리 과감 투자…극자외선(EUV) 기반 최첨단 제품 수요 대응
  • 삼성전자 평택공장.
[주간한국 주현웅 기자] 삼성전자가 극자외선(EUV) 기반 최첨단 제품 수요 증가에 대응하기 위해 대규모 투자에 나섰다. 경기도 평택캠퍼스에 파운드리 생산 시설을 구축하기로 했다.

앞서 삼성전자는 올해 2월 EUV 전용 화성에서 ‘V1 라인’ 가동에 돌입한 바 있다. 이런 가운데 최근에는 평택까지 파운드리 라인을 구축하며 모바일, HPC(High Performance Computing), AI 등 다양한 분야로 초미세 공정 기술 적용 범위를 확대해 나갈 방침을 세웠다.

이번 투자는 작년 4월 발표한 ‘반도체 비전 2030’ 관련 후속 조치 일환이다. 삼성전자는 시스템 반도체 분야에서 글로벌 1위를 달성하기 위한 세부 전략을 실행하고 있다.

평택 파운드리 라인 공사는 이달 본격 착수된 것으로 알려졌다. 2021년 하반기부터 본격 가동할 전망이다.

삼성전자는 2019년 화성 S3 라인에서 업계 최초로 EUV 기반 7나노 양산을 시작한 이후, 2020년 V1 라인을 통해 초미세 공정 생산 규모를 지속 확대해 왔다. 여기에 2021년 평택 라인이 가동되면 7나노 이하 초미세 공정 기반 제품의 생산 규모는 더욱 가파르게 증가할 전망이다.

또 삼성전자는 생산성을 더욱 극대화한 5나노 제품을 올해 하반기에 화성에서 먼저 양산한 뒤, 평택 파운드리 라인에서도 주력 생산할 예정이라고도 밝혔다.

글로벌 파운드리 시장은 5G, HPC, AI, 네트워크 등 신규 응용처 확산에 따라 초미세 공정 중심의 성장이 예상된다. 삼성전자는 프리미엄 모바일 칩을 필두로 하이엔드 모바일 및 신규 응용처로 첨단 EUV 공정 적용을 확대해 나간다는 전략이다.

이번 투자로 삼성전자가 세계 1위 파운드리 기업인 대만 TSMC와의 격차를 좁힐 수 있을지 관심이 모인다. 현재 7나노 이하 초미세 공정 기술을 보유하고 있는 파운드리 기업은 삼성전자와 TSMC가 유일하다. 다만 세계 시장 점유율에서 삼성전자(10%대)는 TSMC(50%대)와 적지 않은 차이를 보이고 있는 현실이다.

삼성전자는 향후에도 과감한 투자를 통해 성장을 이루겠다는 다짐이다. 정은승 삼성전자 DS부문 파운드리사업부 사장은 “5나노 이하 공정 제품의 생산 규모를 확대해 EUV 기반 초미세 시장 수요 증가에 적극 대응해 나갈 것”이라며 “전략적 투자와 지속적인 인력 채용을 통해 파운드리 사업의 탄탄한 성장을 이어나갈 것”이라고 밝혔다.

chesco12@hankooki.com

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