최태원 회장 “경제적 가치뿐 아니라 ESG에서도 다양한 가능성 모색” 당부

[주간한국 주현웅 기자] SK하이닉스가 D램 시장 지배력 확대의 전진기지를 경기도 이천에 새로 설립했다. 3조 원여가 투입된 시설로서 차세대 성장 동력 강화는 물론, 한 차원 높은 ESG 경영이 실현될 곳이라고 SK하이닉스는 강조했다.

SK하이닉스는 지난 1일 경기도 이천 본사에서 M16 준공식을 개최했다. 최태원 SK그룹 회장, 최재원 수석부회장, 조대식 SK수펙스추구협의회 의장, 박정호 SK하이닉스 부회장, 장동현 SK㈜ 사장, 이석희 SK하이닉스 CEO, 하영구 SK하이닉스 선임사외이사 등 16명이 현장에 참석하고, 구성원과 협력회사 직원들도 화상연결을 통해 언택트로 행사에 참여했다.

최 회장은 이날 “반도체 경기가 하락세를 그리던 2년 전 우리가 M16을 짓는다고 했을 때 우려의 목소리가 많았다”며 “하지만 이제 반도체 업사이클 얘기가 나오고 있는 만큼, 어려운 시기에 내린 과감한 결단이 더 큰 미래를 꿈꿀 수 있게 해주었다”고 소회를 밝혔다. 이어 “M16은 그동안 회사가 그려온 큰 계획의 완성이자 앞으로 용인 클러스터로 이어지는 출발점으로서 중요한 상징으로 남을 것”이라고 의미를 전했다.

최 회장은 또 “M16의 탄생 과정에서 수많은 사람들의 도움이 있었던 만큼, 이제 M16이 그분들의 행복에 기여할 것”이라며 “경제적 가치뿐만 아니라 협력회사 상생, 환경보호, 지역사회 발전 등 ESG 측면에서도 다양한 가능성을 모색해 달라”고 당부했다.

2018년 11월 착공한 M16은 총 3조5000억 원, 공사 인력 연인원 334만 명을 투입해 25개월 만에 준공됐다. D램 제품을 주로 생산하게 될 M16은 축구장 8개에 해당하는 5만7000㎡(1만 7000여 평)의 건축면적에 길이 336m, 폭 163m, 높이는 아파트 37층에 달하는 105m로 조성됐다. SK하이닉스가 국내외에 보유한 생산 시설 중 최대 규모다.

특히 M16에는 SK하이닉스 최초로 극자외선(EUV) 노광 장비가 도입된다. SK하이닉스는 최첨단 인프라를 기반으로 이 팹을 차세대 성장동력으로 키워낼 계획이다. EUV 장비를 활용해 올해 하반기부터 4세대 10나노급(1a) D램 제품을 생산할 예정이다. 향후 이 장비의 활용도를 더 높이면 메모리반도체 미세공정 기술 리더십도 더욱 강화될 것이다.

M16 준공으로 SK하이닉스는 시장 지배력 확대 속도를 앞당길 것으로 기대하는 모습이다. 앞서 SK하이닉스는 지난 2015년 M14를 준공하며 “10년 내 국내에 3개의 신규 팹을 구축하겠다”는 계획을 발표한 바 있다. 이후 2018년 청주 M15를 지었는데, 이번에 M16이 완성된 것이다. 결과적으로 당시 밝힌 미래비전 게획은 3년 앞당겨 완성했다.

이석희 SK하이닉스 CEO는 “M16은 EUV 전용 공간, 첨단 공해 저감 시설 등 최첨단 인프라가 집결된 복합 제조시설”이라면서 “향후 경제적 가치 창출은 물론, ESG 경영에도 기여하는 한 단계 높은 차원의 생산기지가 될 것”이라고 말했다.

SK하이닉스 관계자는 “M16은 ‘파이낸셜 스토리’를 실행해 나갈 첨병 역할을 해줄 것”이라며 “D램과 낸드를 양 날개로 메모리반도체 산업 전반의 경쟁력을 키우고, 동시에 사회적가치(SV) 창출 및 환경·사회·지배구조(ESG) 경영에 주력할 것”이라고 전했다.



주현웅 기자 chesco12@hankooki.com